[发明专利]一种多级存储的基于AlScN薄膜的铁电存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211497523.2 申请日: 2022-11-25
公开(公告)号: CN115863435A 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 常晶晶;崔东升;林珍华;薛怡馨;苏杰;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 王海栋
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种多级存储的基于AlScN薄膜的铁电存储器及其制备方法,该铁电存储器包括:下电极(1)、Al1‑xScxN薄膜层(2)、Al1‑yScyN薄膜层(3)和上电极(4),其中,所述Al1‑xScxN薄膜层(2)位于所述下电极(1)上;所述Al1‑yScyN薄膜层(3)位于所述Al1‑xScxN薄膜层(2)上,x≠y,且所述Al1‑yScyN薄膜层(3)的直径小于所述Al1‑xScxN薄膜层(2)的直径;所述上电极(4)位于所述Al1‑xScxN薄膜层(2)和所述Al1‑yScyN薄膜层(3)上。该铁电存储器采用Al1‑xScxN薄膜层和Al1‑yScyN薄膜层形成双层薄膜,通过控制Sc元素即x和y的含量来保证两层薄膜的组分不同,从而让第二层Al1‑yScyN薄膜起到改变第一层Al1‑xScxN薄膜的剩余极化强度,实现多级存储的中间状态。
搜索关键词: 一种 多级 存储 基于 alscn 薄膜 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
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