[发明专利]用于双折射材料晶轴和表面粗糙度表征的装置和方法在审
| 申请号： | 202211534551.7 | 申请日： | 2022-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN116295136A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 王炜;刘文轩;武田光夫 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 李凤鸣 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
本发明属于光学精密测量技术领域，具体涉及一种用于双折射材料晶轴和表面粗糙度表征的装置和方法。一种用于双折射材料晶轴和表面粗糙度表征的方法，是通过调整二分之一波片角度θ，得到多组斯托克斯参数 |
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| 搜索关键词： | 用于 双折射 材料 晶轴 表面 粗糙 表征 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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