[发明专利]一种片上超紧凑波长复用-解复用器件及制造方法在审
申请号: | 202211544775.6 | 申请日: | 2022-12-02 |
公开(公告)号: | CN115857096A | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 刘敏;陈代高 | 申请(专利权)人: | 武汉光谷信息光电子创新中心有限公司 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12;G02B6/13 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 彭程程 |
地址: | 430074 湖北省武汉市东湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种片上超紧凑波长复用‑解复用器件及制造方法,涉及,其中,片上超紧凑波长复用‑解复用器件包括:衬底层;波导层,其设置在所述衬底层上,所述波导层包括入射波导以及两个呈一定夹角设置的出射波导;以及波长复用‑解复用区,其设置在所述入射波导和两个出射波导之间,所述波长复用‑解复用区被配置为:可使经所述入射波导传递的第二波长的传输光直接穿透以从一个出射波导输出,并可使经所述入射波导传递的第一波长的传输光发生反射以从另一个出射波导输出。本发明可以有效解决片上波长(解)复用问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 片上超 紧凑 波长 解复用 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光谷信息光电子创新中心有限公司,未经武汉光谷信息光电子创新中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211544775.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示面板
- 下一篇:一种延长冲击作用时间的一维颗粒链式缓冲器