[发明专利]提高MicroLED芯片亮度的方法在审

专利信息
申请号: 202211549463.4 申请日: 2022-12-05
公开(公告)号: CN115763662A 公开(公告)日: 2023-03-07
发明(设计)人: 何赟;罗珊 申请(专利权)人: 深圳市帝晶光电科技有限公司
主分类号: H01L33/22 分类号: H01L33/22;H01L33/00
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 鲁勇杰
地址: 518101 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请涉及光电器件领域,具体公开了提高Micro LED芯片亮度的方法。提高Micro LED芯片亮度的方法,包括如下步骤:步骤一:使用金属有机化学气相沉积法在半导体衬底上生成N‑GaN半导体层;步骤二:对N‑GaN半导体层远离半导体衬底的平面进行蚀刻,得到表面生成棱形的N‑GaN半导体层;步骤三:使用金属有机化学气相沉积法在蚀刻出棱形的N‑GaN半导体层上生成量子阱;步骤四:使用金属有机化学气相沉积法在量子阱上生成P‑GaN半导体层;步骤五:对P‑GaN半导体层远离半导体衬底的平面进行刻蚀,在P‑GaN半导体层表面生成与P‑GaN半导体层表面棱形正相交的棱形。本申请具有提高光循环利用率进而提高Micro LED芯片亮度的优点。
搜索关键词: 提高 microled 芯片 亮度 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市帝晶光电科技有限公司,未经深圳市帝晶光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211549463.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top