[发明专利]提高MicroLED芯片亮度的方法在审
申请号: | 202211549463.4 | 申请日: | 2022-12-05 |
公开(公告)号: | CN115763662A | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 何赟;罗珊 | 申请(专利权)人: | 深圳市帝晶光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22;H01L33/00 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 鲁勇杰 |
地址: | 518101 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请涉及光电器件领域,具体公开了提高Micro LED芯片亮度的方法。提高Micro LED芯片亮度的方法,包括如下步骤:步骤一:使用金属有机化学气相沉积法在半导体衬底上生成N‑GaN半导体层;步骤二:对N‑GaN半导体层远离半导体衬底的平面进行蚀刻,得到表面生成棱形的N‑GaN半导体层;步骤三:使用金属有机化学气相沉积法在蚀刻出棱形的N‑GaN半导体层上生成量子阱;步骤四:使用金属有机化学气相沉积法在量子阱上生成P‑GaN半导体层;步骤五:对P‑GaN半导体层远离半导体衬底的平面进行刻蚀,在P‑GaN半导体层表面生成与P‑GaN半导体层表面棱形正相交的棱形。本申请具有提高光循环利用率进而提高Micro LED芯片亮度的优点。 | ||
搜索关键词: | 提高 microled 芯片 亮度 方法 | ||
【主权项】:
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