[发明专利]一种低密度多孔铜箔制备方法在审

专利信息
申请号: 202211572140.7 申请日: 2022-12-08
公开(公告)号: CN115786999A 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 张泽兴;邵宇;江泱;杨帅国;何博通 申请(专利权)人: 九江德福科技股份有限公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04
代理公司: 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 代理人: 唐忠庆
地址: 332000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种低密度多孔铜箔制备方法,该方法包括以下步骤:S1将钛板加工成T型,打磨抛光;S2在T型钛板打磨抛光的一面进行制孔;S3将T型钛板擦拭干净;S4将环氧树脂类有机材料涂覆在孔内部制作成屏蔽点;S5对屏蔽材料进行固化;S6对T型钛板表面进行抛刷;S7配置硫酸铜电镀液并倒入电解槽中;S8将T型钛板放入电解槽中做阴极进行电镀生箔;S9将铜箔从钛板表面剥离。该方法制备的铜箔与同等厚度的铜箔相比,降低了多孔铜箔的整体重量,增加了负极材料的涂覆面积,负极材料的增加有助于能量密度提高,制备的铜箔用作负极集流体,在同等电池体积内,既可以提高电池的能量密度,又可以降低电池的整体重量。
搜索关键词: 一种 密度 多孔 铜箔 制备 方法
【主权项】:
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