[发明专利]一种用于硅片表面金属离子检测样品的制备装置及方法在审
申请号: | 202211611460.9 | 申请日: | 2022-12-14 |
公开(公告)号: | CN115876550A | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 张梦珍 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 | 代理人: | 沈寒酉;李斌栋 |
地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例公开了一种用于硅片表面金属离子检测样品的制备装置及方法;所述制备装置包括:透明状的密封箱体;设置于所述密封箱体内的多个液体容纳单元,包括待测液体罐以及定容液体罐;设置于所述密封箱体内的承载台,所述承载台用于承托容器;设置于所述密封箱体内的定量溶液提取单元,所述定量溶液提取单元用于分别从多个所述液体容纳单元中提取设定体积的液体至所述容器中;设置于所述密封箱体内且位于所述承载台下方的加热单元,所述加热单元用于对盛装有待测液体的容器进行加热以蒸发除去所述容器中的液体。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 硅片 表面 金属 离子 检测 样品 制备 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司,未经西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211611460.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。