[发明专利]一种半导体硅晶圆片打磨清洗剂混合反应釜在审
申请号: | 202211613754.5 | 申请日: | 2022-12-15 |
公开(公告)号: | CN115920801A | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 赵赛 | 申请(专利权)人: | 江苏芯诺半导体科技有限公司 |
主分类号: | B01J19/00 | 分类号: | B01J19/00;B01J4/00 |
代理公司: | 无锡风创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32461 | 代理人: | 胡颖 |
地址: | 224000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及混合反应釜领域,具体公开了一种半导体硅晶圆片打磨清洗剂混合反应釜,所述半导体硅晶圆片打磨清洗剂混合反应釜包括主支架和安装板,所述主支架的左侧下方焊接与连接座一,且连接座一的顶端一侧设置有水泵,所述水泵的一侧进液端连接有连通管,有益效果为:通过量筒和固体原料进料口的设置,可以避免操作人员在添加原料的过程中,出现需要大幅度弯腰和抬手的现象,可以降低操作人员加料过程中的劳累度,同时向量筒内添加原料时,量筒表面设置有刻度,而量筒由玻璃制成,因此向量筒内添加液体原料时,可以通过量筒前端的刻度,判断量筒内添加的液体原料量,使得在添加原料过程中,更加的便捷。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 硅晶圆片 打磨 洗剂 混合 反应 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏芯诺半导体科技有限公司,未经江苏芯诺半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211613754.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种传热均匀的大枣熬煮设备
- 下一篇:一种宽频发电机电压控制系统