[发明专利]一种半导体硅晶圆片打磨清洗剂混合反应釜在审

专利信息
申请号: 202211613754.5 申请日: 2022-12-15
公开(公告)号: CN115920801A 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 赵赛 申请(专利权)人: 江苏芯诺半导体科技有限公司
主分类号: B01J19/00 分类号: B01J19/00;B01J4/00
代理公司: 无锡风创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32461 代理人: 胡颖
地址: 224000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及混合反应釜领域,具体公开了一种半导体硅晶圆片打磨清洗剂混合反应釜,所述半导体硅晶圆片打磨清洗剂混合反应釜包括主支架和安装板,所述主支架的左侧下方焊接与连接座一,且连接座一的顶端一侧设置有水泵,所述水泵的一侧进液端连接有连通管,有益效果为:通过量筒和固体原料进料口的设置,可以避免操作人员在添加原料的过程中,出现需要大幅度弯腰和抬手的现象,可以降低操作人员加料过程中的劳累度,同时向量筒内添加原料时,量筒表面设置有刻度,而量筒由玻璃制成,因此向量筒内添加液体原料时,可以通过量筒前端的刻度,判断量筒内添加的液体原料量,使得在添加原料过程中,更加的便捷。
搜索关键词: 一种 半导体 硅晶圆片 打磨 洗剂 混合 反应
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏芯诺半导体科技有限公司,未经江苏芯诺半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211613754.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top