[实用新型]基板处理装置有效
| 申请号： | 202220093625.7 | 申请日： | 2022-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN217280680U | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 朴世文;金学庆 | 申请（专利权）人： | INVENIA有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种基板处理装置。本实用新型的实施例的基板处理装置包括：腔室，包括处理空间和天线收纳空间，所述处理空间用于收纳待处理基板，所述天线收纳空间用于收纳天线，所述天线被配置成与所述待处理基板对置；多个窗，位于所述腔室内，用于分隔所述处理空间和所述天线收纳空间；窗支撑框架，用于支撑所述多个窗；以及加热板，位于所述多个窗的上表面，用于加热所述多个窗，其中，所述窗支撑框架包括朝向所述窗凸出的支撑凸台，以支撑所述窗，所述加热板设置为与所述支撑凸台重叠。本实用新型不会显著影响用于产生等离子体的感应电场，同时能够减少副产物附着在窗上的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
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