[实用新型]一种膜系结构有效
申请号: | 202220987089.5 | 申请日: | 2022-04-26 |
公开(公告)号: | CN217238429U | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 李卫涛 | 申请(专利权)人: | 光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B1/115;C23C14/54;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/06 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 康欢欢 |
地址: | 200436 上海市宝山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种膜系结构。该膜系结构为:Sub|((HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^d)^e(HL)^a(2H)^b(LH)^c fL|Air;其中,Sub为基板,Air为出射介质空气,H为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料,L为1/4中心波长光学厚度的低折射率材料,a、b、c、d、e、f均为正整数;其中,(HL)^a表示依次沉积H膜层和L膜层并重复a次;(2H)^b表示依次沉积H膜层和H膜层并重复b次;(LH)^c表示依次沉积L膜层和H膜层并重复c次;(2L)^d表示依次沉积L膜层和L膜层并重复d次;((HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^d)^e表示膜堆(HL)^a(2H)^b(LH)^c(2L)^d重复e次;fL表示L膜层重复f次。能够在修正膜厚均匀性的同时,还可以用来修正高低折射率材料的光学厚度相对比例,具有准确和高效的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光驰科技(上海)有限公司,未经光驰科技(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202220987089.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。