[实用新型]半导体清洗设备有效
| 申请号： | 202221056099.3 | 申请日： | 2022-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN217289621U | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 王宝生;唐斌 | 申请（专利权）人： | 广州粤芯半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 郑星 |
| 地址： | 510000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种半导体清洗设备。该清洗设备中集成有干法清洗腔和湿法清洗腔，在该干法清洗腔内可利用第一波长的紫外光使光刻胶分解，并在臭氧分解出的原子原的作用下使得被分解的光刻胶能够被氧化而去除，实现在干法清洗腔内去除光刻胶的目的，提高对晶圆的清洗效率，并改善晶圆受到光刻胶污染及光刻胶残留的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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