[实用新型]一种反应腔底板、散热装置及MPCVD设备有效
| 申请号： | 202221234289.X | 申请日： | 2022-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN217628615U | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 吴丹;黄春林;刘文科;李俊宏;季宇 | 申请（专利权）人： | 成都纽曼和瑞微波技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/511 | 分类号： | C23C16/511;C23C16/44 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610052 四川省成都*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种微波等离子体化学气相沉积设备的反应腔底板，包括贯穿厚度方向的第一通孔1，还包括贯穿厚度方向的第二通孔2、和贯穿厚度方向的第三通孔3，所述第二通孔2围绕并靠近第一通孔1设置，所述第三通孔3围绕并远离第一通孔1设置，提供了一种结构简单、便于加工制作、可及时有效给样品台、支承环等零部件散热降温，从而延长设备使用寿命的反应腔底板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反应 底板 散热 装置 mpcvd 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
