[实用新型]一种腔体和生长设备有效
| 申请号： | 202221796224.4 | 申请日： | 2022-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN217973390U | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 朱亮;叶钢飞;胡建荣;阮文星;彭天帅;王鹏飞 | 申请（专利权）人： | 浙江晶盛机电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/44 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 312300 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型实施例提供了一种腔体和生长设备，属于金刚石生长相关技术领域，构成腔体的组成部分包括：反应腔；安装座，所述安装座位于所述反应腔的下方，所述安装座和所述反应腔之间设有密封圈，且所述安装座内设有一冷却通道，所述冷却通道可对所述密封圈进行降温；达到在反应过程中反应腔不易泄露的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 生长 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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