[实用新型]一种真空镀膜系统有效
申请号: | 202221893361.X | 申请日: | 2022-07-21 |
公开(公告)号: | CN217809653U | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 黄永长;龙汝磊;吴萍 | 申请(专利权)人: | 光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/54 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 袁微微 |
地址: | 200436 上海市宝山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,公开一种真空镀膜系统。其中真空镀膜系统包括镀膜腔、搬运腔、输送装置和冷却装置,镀膜腔用于镀膜,搬运腔用于盛放膜料承载件,膜料承载件上设置有多个承载位,镀膜腔内设置有镀膜位;输送装置能将搬运腔的膜料承载件输送至镀膜腔,并将承载位依次输送至镀膜位;冷却装置设置于镀膜腔,用于冷却置于镀膜腔的膜料承载件。本实用新型的输送装置依次将各个承载位输送至镀膜位镀膜,镀膜腔内还设置有冷却装置,用于对置于镀膜腔的膜料承载件进行冷却,一方面有效地避免对膜料承载件以及其他部件可能由于温度过高的损坏,提高了安全性;另一方面还保证了镀膜工艺的稳定性,进而提高了镀膜的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 系统 | ||
【主权项】:
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