[实用新型]一种等离子沉积设备有效

专利信息
申请号: 202221909840.6 申请日: 2022-07-21
公开(公告)号: CN217839128U 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 何淑英;何浩梁;冯嘉荔 申请(专利权)人: 广州市鸿浩光电半导体有限公司
主分类号: C23C16/513 分类号: C23C16/513
代理公司: 广州正驰知识产权代理事务所(普通合伙) 44536 代理人: 唐传妹
地址: 510000 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种等离子沉积设备,涉及等离子沉积技术领域,包括设备本体,所述设备本体的顶部靠近一侧边缘处固定有控制箱,所述设备本体的顶部靠近另一侧边缘处固定有沉积盒,所述沉积盒的顶部开设有反应室,所述反应室的内部底面沿圆周方向开设有四个滑道,所述反应室的内壁延圆周方向等距固定有四个第一弹簧,四个所述第一弹簧的一端均焊接有弧形板,四个所述弧形板的底部均对应滑动连接在滑道的内部,本实用新型,通过在等离子沉积设备内部设置弧形板,配合弹簧从而可以固定不同大小的物体,解决了传统的等离子沉积设备没法根据现场实际情况固定不同大小的物体,给等离子沉积设备的使用造成了一定局限性的问题。
搜索关键词: 一种 等离子 沉积 设备
【主权项】:
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