[实用新型]一种等离子沉积设备有效
申请号: | 202221909840.6 | 申请日: | 2022-07-21 |
公开(公告)号: | CN217839128U | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 何淑英;何浩梁;冯嘉荔 | 申请(专利权)人: | 广州市鸿浩光电半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513 |
代理公司: | 广州正驰知识产权代理事务所(普通合伙) 44536 | 代理人: | 唐传妹 |
地址: | 510000 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种等离子沉积设备,涉及等离子沉积技术领域,包括设备本体,所述设备本体的顶部靠近一侧边缘处固定有控制箱,所述设备本体的顶部靠近另一侧边缘处固定有沉积盒,所述沉积盒的顶部开设有反应室,所述反应室的内部底面沿圆周方向开设有四个滑道,所述反应室的内壁延圆周方向等距固定有四个第一弹簧,四个所述第一弹簧的一端均焊接有弧形板,四个所述弧形板的底部均对应滑动连接在滑道的内部,本实用新型,通过在等离子沉积设备内部设置弧形板,配合弹簧从而可以固定不同大小的物体,解决了传统的等离子沉积设备没法根据现场实际情况固定不同大小的物体,给等离子沉积设备的使用造成了一定局限性的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 沉积 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的