[实用新型]半导体工艺设备有效

专利信息
申请号: 202221929059.5 申请日: 2022-07-25
公开(公告)号: CN218003378U 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 李岑;杨帅 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: G01N33/00 分类号: G01N33/00;B01D53/30;B01D53/00;B01D53/26;H01L21/67
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 施敬勃
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开一种半导体工艺设备,包括工艺腔体、气体取样管道、第一气液分离装置、液体收集容器和氧含量分析仪,其中:所述第一气液分离装置设有第一入口和与所述第一入口连通的第一出口,所述气体取样管道的第一端部与所述工艺腔体连通,所述气体取样管道的第二端部与所述第一入口连通,所述液体收集容器和所述氧含量分析仪均与所述第一出口连通,所述氧含量分析仪位于所述第一出口的上方。上述方案可以解决相关技术中在检测工艺腔体内的氧含量时,工艺腔体内的副产物在检测管路和氧含量分析仪中冷却成液体容易对检测管路和氧含量分析仪造成堵塞的问题。
搜索关键词: 半导体 工艺设备
【主权项】:
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