[实用新型]等离子体改性辅助抛光集成设备

摘要

本实用新型涉及一种等离子体改性、抛光加工设备，特别是等离子体改性辅助抛光集成设备，包括：底座，竖轴，设置于底座上，下电极，能够相对底座竖向移动，下电极位于竖轴一侧；上电极，位于下电极上方，与竖轴相连接，且上电极能够绕竖轴转动，上电极与下电极对应设置，上电极位于，下电极和上电极之间具有用于放置待加工件的加工区域，抛光装置，抛光装置上设置有用于待加工件表面抛光的抛光头，抛光头能够移动至加工区域上方。本申请的等离子体改性辅助抛光集成设备，即实现了对待加工件进行改性，又将下电极作为抛光平台，配合抛光头对待加工件进行抛光，从而达到改性‑抛光一体集成的目的。