[实用新型]具有埋层漂移区的高压PLDMOS器件及功率芯片有效

专利信息
申请号: 202222123173.5 申请日: 2022-08-12
公开(公告)号: CN218182218U 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 刘琦;杨建;曹珂 申请(专利权)人: 南京芯惠半导体有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L21/02;H01L21/336;H01L21/20
代理公司: 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 代理人: 王金双
地址: 211100 江苏省南京市江宁区苏源*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种具有埋层漂移区的高压PLDMOS器件及功率芯片,所述器件包括:P型衬底;N型埋层,位于所述P型衬底上;P型埋层,位于所述N型埋层上;P型外延层,位于所述P型衬底、所述N型埋层、所述P型埋层上;高压N型阱区、N型体区、P型阱区、P型缓冲层,分别位于所述P型外延层上;第一阴极P型重掺杂区,位于所述P型阱区上并与漏极连接;第二阴极P型重掺杂区,位于所述P型缓冲层上并与所述P型衬底连接;位于所述N型体区上的阳极P型重掺杂区和阳极N型重掺杂区短接并与源极连接;场效应氧化层,位于所述第一阴极P型重掺杂区和所述阳极P型重掺杂区之间;多晶硅栅极,位于所述阳极P型重掺杂区与所述场效应氧化层之间区域上方,并与栅极连接。
搜索关键词: 具有 漂移 高压 pldmos 器件 功率 芯片
【主权项】:
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