[实用新型]一种改善膜厚均匀性的CVD设备

摘要

本申请提供一种改善膜厚均匀性的CVD设备，包括：外壳、顶盖、加热载台、气柜和通气管道，其中，所述顶盖与外壳铰接，所述加热载台设置在外壳内，所述顶盖与外壳构成反应腔体。所述加热载台包括多个通气区域，所述通气区域中设有多个晶圆载盘，每个所述通气区域分别通过通气管道与气柜连接；所述晶圆载盘包括：真空吸盘和环形分流盘，所述真空吸盘设置在所述环形分流盘的圆环内。通过对不同通气区域的反应气体流量进行调整，以及，环形分流盘在晶圆四周流出反应气体调整晶圆四周反应气体分布，能够有效提高膜厚均匀性，并且不需要针对CVD沉积参数进行调整，不会改变CVD沉积薄膜质量，因此对产品性能无影响。