[实用新型]沉积设备及镀膜系统有效
| 申请号： | 202222351147.8 | 申请日： | 2022-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN218089794U | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 郭玉雷;张武;林佳继;刘群 | 申请（专利权）人： | 拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/505 | 分类号： | C23C16/505;C23C16/54 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 潘登 |
| 地址： | 214192 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种沉积设备及镀膜系统，该沉积设备包括反应室、特气系统、真空系统和射频系统，反应室为间隔设置的多个，特气系统为至少一个且与多个反应室的进气口分别相连以朝向反应室内输出特气，真空系统为至少一个且与多个反应室的抽真空口分别相连以对多个反应室抽真空，射频系统为至少一个且与多个反应室分别相连以对多个反应室放电，该沉积设备的产能较高。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 镀膜 系统 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
