[实用新型]一种电弧离子镀的圆环靶材有效

专利信息
申请号: 202222535085.6 申请日: 2022-09-21
公开(公告)号: CN218932274U 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 毕凯;陈大民 申请(专利权)人: 嘉兴岱源真空科技有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 北京智行阳光知识产权代理事务所(普通合伙) 11738 代理人: 曹硕
地址: 314100 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种电弧离子镀的圆环靶材。所述电弧离子镀的圆环靶材包括靶材,磁靴,中心磁铁,以及电磁线圈。所述靶材包括本体,以及通孔。所述中心磁铁位于所述通孔内且与所述通孔的内侧壁间隔设置,所述中心磁铁用于提供轴向的磁场,所述中心磁铁上粘贴有一层防有害物质蒸发层。所述中心磁铁的磁场方向与所述电磁线圈之间形成会切磁场。中心磁铁使得电子弧斑在运动到所述通孔的边缘时,不会掉落到所述通孔中导致放电中断,而是会被磁约束至靶材的边缘,这样运动区域最大,靶材利用率高,又可以改善弧斑运动,提高膜层品质。所述靶材呈环形结构来代替目前大量使用的圆盘靶材,以使靶材利用率更合理,弧板运动更弥散均衡。
搜索关键词: 一种 电弧 离子镀 圆环
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