[实用新型]一种带有喷嘴的CVD反应器有效
申请号: | 202222600040.2 | 申请日: | 2022-09-29 |
公开(公告)号: | CN218232569U | 公开(公告)日: | 2023-01-06 |
发明(设计)人: | 赖学明 | 申请(专利权)人: | 苏州耀德半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 苏州汇诚汇智专利代理事务所(普通合伙) 32623 | 代理人: | 柯兴宇 |
地址: | 215000 江苏省苏州市苏州工业园区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种带有喷嘴的CVD反应器,包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,炉体的顶部固定安装有传动箱;传动组件设置在传动箱的内部,公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部,自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端;传动组件用于带动CVD反应器进行旋转;公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。本实用新型的有益效果在于,在CVD反应设备技术领域中,通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中,再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气,同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,使得原料气更加均匀的喷入炉内,大大的增加设备的实用性,提高工作效率,有利于实际的应用与操作。 | ||
搜索关键词: | 一种 带有 喷嘴 cvd 反应器 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的