[实用新型]一种带有喷嘴的CVD反应器有效

专利信息
申请号: 202222600040.2 申请日: 2022-09-29
公开(公告)号: CN218232569U 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 赖学明 申请(专利权)人: 苏州耀德半导体有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 苏州汇诚汇智专利代理事务所(普通合伙) 32623 代理人: 柯兴宇
地址: 215000 江苏省苏州市苏州工业园区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种带有喷嘴的CVD反应器,包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,炉体的顶部固定安装有传动箱;传动组件设置在传动箱的内部,公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部,自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端;传动组件用于带动CVD反应器进行旋转;公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。本实用新型的有益效果在于,在CVD反应设备技术领域中,通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中,再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气,同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件,使得原料气更加均匀的喷入炉内,大大的增加设备的实用性,提高工作效率,有利于实际的应用与操作。
搜索关键词: 一种 带有 喷嘴 cvd 反应器
【主权项】:
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