[实用新型]一种离子注入装置

摘要

本实用新型涉及一种离子注入装置，其属于半导体设备技术领域，所述离子注入装置包括有相连接的离子束发生装置和工艺腔模块，离子束发生装置产生截面呈条形的带状离子束并输出至工艺腔模块内，离子束的条形截面的长度方向与水平面之间的锐夹角小于45度。本实用新型专利开创性地将离子束发生装置的设置方向进行扭转，将离子束由纵向的带状束流改为横向，晶圆扫描方向也相应地由横向变为纵向，从而使工艺腔内的空间得到了更为合理的利用，减少了晶圆在进行离子注入前、后进行移动的距离和时间，在工艺质量不受影响的前提下实现了生产效率更高的效果。