[实用新型]高分子基材反射式光栅盘有效
申请号: | 202223450202.5 | 申请日: | 2022-12-22 |
公开(公告)号: | CN219496711U | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 王德麾;姜世平;谢伟民;张宜文;钟勇 | 申请(专利权)人: | 四川云盾光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 贾林 |
地址: | 610000 四川省成都市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型涉及光栅盘技术领域,具体公开了一种高分子基材反射式光栅盘,包括由上至下依次层叠设置的薄膜组件、胶层、基板;所述薄膜组件远离吸光胶层的一侧设置有形成光发射取和光吸收区的光栅图案。本实用新型避免了直接在基板上蚀刻出现较大粗糙度,造成光形成漫反射,从而降低光反射区和光吸收区的对比度,影响测量精度的问题出现。 | ||
搜索关键词: | 高分子 基材 反射 光栅 | ||
【主权项】:
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