[发明专利]分析系统、及分析图像的制造方法在审

专利信息
申请号: 202280005417.X 申请日: 2022-06-23
公开(公告)号: CN116324395A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 内海英雄 申请(专利权)人: 株式会社雷弥
主分类号: G01N24/08 分类号: G01N24/08
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明能够应用低亮度和/或分辨率低的图像。本发明的分析系统具有图像构成部,所述图像构成部具备存储部和图像运算部,所述存储部至少存储核心图像像素信息和操作图像像素信息,所述核心图像像素信息和所述操作图像像素信息包括同一试样的同一分析对象区域且包含以不同的拍摄方式拍摄的规定数量的像素,所述操作图像像素信息是包括分析信息且亮度和/或分辨率低于所述核心图像像素信息的图像像素信息,所述图像运算部通过对至少1个以上的所述核心图像像素信息和至少1个以上的所述操作图像像素信息进行包括哈达玛积的运算而构建新的创建图像像素信息。
搜索关键词: 分析 系统 图像 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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