[发明专利]一种线扫光学检测结构及同轴线扫光源的主光轴校准方法在审
| 申请号： | 202310028250.5 | 申请日： | 2023-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN115931880A | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 魏新和;龚海;李青岩;顾海鹏;杨彦琳;陈俊秀 | 申请（专利权）人： | 浙江大学湖州研究院 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海新隆知识产权代理事务所(普通合伙) 31366 | 代理人： | 刘兰英 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市西塞山路8*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种线扫光学检测结构及同轴线扫光源的主光轴校准方法，该线扫光学检测结构包括线阵相机，光学镜头，同轴线扫光源和电动直线位移台，线阵相机、光学镜头和阶梯状样品调节至同轴且阶梯状样品处于光学镜头的前焦面上；同轴线扫光源固定于电动直线位移台上，并且移动电动直线位移台改变同轴线扫光源位置进行成像；量化成像所得图片的伪影宽度，并进一步得到光源发散角的正弦值；找到正弦值最小的地方，即为光源发散角最小的位置，该处就是同轴线扫光源的主轴。本发明可用于提高线扫光学检测系统的检测精度，有效改善图像质量，提升图像分辨率，避免产生伪影。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 检测 结构 同轴线 光源 主光轴 校准 方法 | ||
【主权项】：
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