[发明专利]一种用于碳化硅晶片抛光液的组合物、抛光液及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202310053346.7 | 申请日： | 2023-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN116285698A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 郝唯佑;翟虎;林宏达;孙金梅 | 申请（专利权）人： | 浙江兆晶新材料科技有限公司;东旭科技集团有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/04 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 陈静 |
| 地址： | 323010 浙江省丽水市莲都区南明山*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及碳化硅晶片制造领域，公开了一种用于碳化硅晶片抛光液的组合物、抛光液及其制备方法和应用。该组合物中含有各自独立保存或者两者以上混合保存的以下组分：磨料、分散稳定剂、化学添加剂、湿润剂、纳米粉末、pH调节剂、水；所述磨料为氧化硅平均粒径为80‑120nm的纳米氧化硅水溶胶和平均粒径为10‑120nm的氧化铝中的至少一种；所述纳米粉末的平均粒径为1‑5nm。本发明提供的碳化硅晶片抛光液能提高碳化硅晶片表面抛光的质量，提高加工速率、减少加工工序。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 碳化硅 晶片 抛光 组合 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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