[发明专利]一种基于条件数的纳米结构散射测量配置优化方法及系统在审
| 申请号： | 202310094923.7 | 申请日： | 2023-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN116068865A | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 陈修国;杨天娟;张家豪;刘硕;刘世元;李仲禹 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学;上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F30/23;G06F17/16;G06F17/11;G16C60/00;G06F111/14 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李晓飞 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于条件数的纳米结构散射测量配置优化方法及系统，属于光刻技术领域，方法包括：步骤S1、确定纳米结构的待测形貌参数以及散射测量的参数提取过程中固定不变的参数；步骤S2、基于所述待测形貌参数和所述固定不变的参数，构建散射测量中衡量测量信号和理论信号之间拟合误差的评价函数；步骤S3、基于所述评价函数，得到所述待测形貌参数的误差传递矩阵；步骤S4、计算在不同的测量条件下，所述待测形貌参数的误差传递矩阵的条件数，条件数最小的测量条件即为最优配置。本发明还提供了一种基于条件数的纳米结构散射测量配置优化系统。本发明为实现高测量精度、准确度和鲁棒性好的纳米结构散射测量提供了一种新的测量配置优化方案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 件数 纳米 结构 散射 测量 配置 优化 方法 系统 | ||
【主权项】：
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