[发明专利]一种光学元件磁流变加工过程中驻留时间优化方法

摘要

本发明公开了一种光学元件磁流变加工过程中驻留时间优化方法，该方法通过将粒子群算法引入到脉冲迭代中，从而实现驻留时间的计算。经过粒子群算法处理后的驻留时间与原来的普通脉冲迭代计算的驻留时间相比，光学元件面型的中频段误差变小，抛光过程中抛光轮瞬时的进给速度减小，进而降低对机床稳定性的影响。本发明通过降低加工过程中抛光轮频繁的加减速运动，从而降低造成的面型误差尤其是中频段误差，具有较大的应用价值。