[发明专利]一种原位自生Al2在审

专利信息
申请号: 202310195372.3 申请日: 2023-03-03
公开(公告)号: CN116200739A 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 刘洪喜;陶建涛;李为尚;齐惠清;刘亮 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C23C24/10 分类号: C23C24/10;C22C30/00;C22C32/00;B22F9/04
代理公司: 昆明隆合知识产权代理事务所(普通合伙) 53220 代理人: 龙燕
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种原位自生Al2O3增强高熵合金涂层及制备方法,属于激光熔覆领域。本发明所述的合金粉末为Al、Ti、V、Cr、Nb、TiO2,基体材料选用TC4钛合金;具体方法为:对TC4基材进行表面预处理,将称量好的Al、Ti、V、Cr、Nb金属粉末与纳米TiO2粉末通过球磨机球磨后均匀后预置在预处理TC4基材上,在其表面形成预置层,并进行激光熔覆试验,采用原位自生的方式引入Al2O3增强相,提高其高温抗氧化性能。本发明制备出的AlTiVCrNb‑TiO2高熵合金涂层与基体实现良好的冶金结合,并无孔洞和裂纹的产生,其涂层具高硬度及良好的抗氧化性能。
搜索关键词: 一种 原位 自生 al base sub
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