[发明专利]一种涂层制备装置

摘要

本发明公开一种涂层制备装置，包括公转组件、自转组件以及工位组件，公转组件中，公转驱动器利用公转驱动轴带动公转盘转动，工位组件中的工位驱动轴与公转盘转动相连，且二者的转动轴线不重合，使得公转盘能够带动工位驱动轴公转，继而利用工位旋转轴带动夹具和叶片公转；在公转的同时，自转组件中，自转驱动器利用自转驱动轴带动工位驱动轴自转，继而利用工位旋转轴带动夹具以及叶片自转，在公转和自转同时进行的条件下，采用真空等离子物理气相沉积技术，利用真空室内的喷枪对叶片进行真空等离子物理气相涂层制备。本发明公转的转速和自转的转速能够进行独立调节，分别调节公转和自转的转速，使公转盘公转以及叶片自转均处于最佳转速状态。