[发明专利]一种相位调制莫尔成像器件在审
申请号: | 202310202373.6 | 申请日: | 2023-03-06 |
公开(公告)号: | CN116338976A | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 申溯;周云;郑伟伟 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | G02B30/29 | 分类号: | G02B30/29;G03B21/602 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 朱振德 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种相位调制莫尔成像器件,包括间隔层,其具有相对设置的第一表面和第二表面;透射单元,其设置在所述第一表面,所述透射单元包括第一微聚焦单元,所述第一微聚焦单元包括多个第一微聚焦元件;反射单元,其设置在所述第二表面,所述反射单元包括第二微聚焦单元,多个所述第一微聚焦元件在所述间隔层的投影与多个所述第二微聚焦元件在所述间隔层的投影具有相对偏移,所述第二微聚焦元件的表面设有反射层,图文信息编码于所述反射层。本发明在制造过程中无需微聚焦元件阵列和图文阵列的精确对位,对于透射单元和反射单元之间的对位要求降低,从而降低了制作难度以及生产成本,本发明在立体成像、视觉防伪等领域具有应用价值及前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 相位 调制 莫尔 成像 器件 | ||
【主权项】:
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