[发明专利]一种N元素调控Ta0.5在审

专利信息
申请号: 202310234476.0 申请日: 2023-03-13
公开(公告)号: CN116288204A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 王琦瑶;李建亮;李航 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/54;C23C14/02;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 邹伟红
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法,其步骤为:以Ta靶和W靶作为靶材,采用氩气为溅射气体,氮气为反应气体,通过直流磁控溅射靶材,在基底上获得Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜。本发明通过多靶直流磁控溅射从W2N到Ta0.5W0.5Nx薄膜的过渡设计,利用氮含量调控Ta0.5W0.5Nx薄膜的价电子浓度,使得钨元素取代钽元素,制备x值为0.82~1.02的单相固溶结构薄膜,其表面结合延性金属材料钨和氮化物的优点,形成兼具高硬度和韧性的特性,可以有效提高薄膜的强韧性,在耐磨损方面也具有更好的耐久性,有利于延长刀具的使用寿命。
搜索关键词: 一种 元素 调控 ta base sub 0.5
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学,未经南京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310234476.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top