[发明专利]蚀刻液组合物、制备方法及蚀刻方法在审
| 申请号： | 202310244466.5 | 申请日： | 2023-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN116162934A | 公开（公告）日： | 2023-05-26 |
| 发明（设计）人： | 王元元;胡青华;蔡洁;张兵;向文胜;赵建龙;杜冰 | 申请（专利权）人： | 艾森半导体材料（南通）有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 张家蕊 |
| 地址： | 226000 江苏省南通市开发区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻液组合物、制备方法及蚀刻方法，属于蚀刻材料技术领域。其包括基液A和浓缩液B，基液A的制备原料按质量百分比计，包括：过氧化氢1％‑15％、无机酸5％‑25％、稳定剂0.005％‑5％和余量水，浓缩液B由缓蚀剂、络合剂和表面活性剂以质量比为20‑35：30‑42：30‑42混合制成，并且浓缩液B在蚀刻液组合物中的添加质量浓度为0.001％‑10％。本发明中将缓蚀剂、络合剂和表面活性剂混合制成浓缩液B，再将浓缩液B作为辅剂加入基液A中，避免了直接混合导致的缓蚀剂、络合剂、表面活性剂被过氧化氢或酸先破坏结构的问题。在蚀刻含铜金属时具有无锥角、速率稳定、线宽损失小的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 制备 方法 | ||
【主权项】：
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