[发明专利]一种溅射靶材的清洗方法在审
| 申请号： | 202310255626.6 | 申请日： | 2023-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN116219440A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;张萍萍 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F4/00 | 分类号： | C23F4/00;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 徐浩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种溅射靶材的清洗方法，所述清洗方法包括如下步骤：真空条件下，干式等离子清洗溅射靶材；所述干式等离子清洗所用清洁气体包括包括氧气与氩气的混合气体。本发明采用干式等离子清洗的方法不仅可以去除灰尘与油污，还能够去除溅射靶材表面的氧化层，从而保证清洗后溅射靶材的洁净度，避免了清洗剂带来的二次污染，也避免了金属杂质以及脏污的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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