[发明专利]银纳米线透明导电薄膜及其制备方法和应用有效
申请号: | 202310277191.5 | 申请日: | 2023-03-21 |
公开(公告)号: | CN115985580B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 陈鸿武;郑博达;汪聪;曾西;苏传明;解威;祝潇莉;陈洁 | 申请(专利权)人: | 浙江大华技术股份有限公司 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14;H04N23/40 |
代理公司: | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人: | 储照良 |
地址: | 310051 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种银纳米线透明导电薄膜及其制备方法和应用。所述制备方法包括:采用磁控溅射法在金属基板表面沉积氧化物层,得到第一复合层,氧化物层选自二氧化硅层或氧化锌层;将第一复合层进行热等静压处理,得到第二复合层;在第二复合层的氧化物层表面设置有机硅离型膜,并去掉金属基板,得到第三复合层;提供透明导电层,透明导电层包括层叠设置的透明衬底和银纳米线层,将第三复合层转印至银纳米线层的表面,并剥离有机硅离型膜,得到预处理导电薄膜;将预处理导电薄膜进行冷等静压处理,得到银纳米线透明导电薄膜。本发明制备方法能够显著提高银纳米线透明导电薄膜可靠性,同时保证银纳米线透明导电薄膜具有高透过率。 | ||
搜索关键词: | 纳米 透明 导电 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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