[发明专利]光刻机的内部环境采样装置在审
| 申请号： | 202310345147.3 | 申请日： | 2023-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN116147998A | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 王炯;沈璐;郑嘉祺;汤金辉;刘毅 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/24 | 分类号： | G01N1/24 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 201314*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机的内部环境采样装置，属于环境监测技术领域，该光刻机的内部环境采样装置，用于对光刻机内部的TVOC含量进行采样，包括采样泵、第一硅胶软管和Tenax‑TA采样管，第一硅胶软管的一端与采样泵连接，另一端与Tenax‑TA采样管连接，Tenax‑TA采样管远离第一硅胶软管的一端通过第二硅胶软管连接光刻机的采样口。通过特定尺寸和特定材质的采样管和连接头对光刻机进行采样，尽量避免了传统采样手法中硅胶采样管和封瓶膜等采样辅材的使用，保证了光刻机内部环境TVOC采样的有效性和准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 内部 环境 采样 装置 | ||
【主权项】：
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