[发明专利]一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法在审
申请号: | 202310349195.X | 申请日: | 2023-04-04 |
公开(公告)号: | CN116360024A | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 石云波;赵锐;祖凯旋;沈富明;张旭;刘豪 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G03F7/00 |
代理公司: | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人: | 侯小幸 |
地址: | 030051 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明公开了一种多阶梯周期光栅结构及其制备方法,涉及微位移检测技术领域。包括周期性的多阶梯光栅结构,每个周期的多阶梯光栅结构均包括衬底基板与四阶梯光栅结构,四阶梯光栅结构均设于衬底基板上,四阶梯光栅结构按照单周期内从右到左的顺序,分别为第一阶梯光栅结构、第二阶梯光栅结构、第三阶梯光栅结构、第四阶梯光栅结构,为三个不同高度的层结构阵列。本发明通过结构改进实现对零级衍射光的调控削弱,以达到提高检测系统激光器稳定性的效果,通过对应制备方法所制备的多阶梯周期光栅结构具有零级光调控减弱作用,能够实现一定范围的光强调控,同时便于制备和集成,具备较高的衍射效率,能够应用于集成化高精度位移检测领域中。 | ||
搜索关键词: | 一种 阶梯 周期 光栅 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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