[发明专利]一种用于镱离子微波频标的光路整形装置在审
| 申请号： | 202310371829.1 | 申请日： | 2023-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN116430597A | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 王运佳;王一非;刘国栋;高连山;王亮 | 申请（专利权）人： | 北京无线电计量测试研究所 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;H01S3/00;H01S3/23;G02B27/28;G02B5/20;G02B5/30 |
| 代理公司： | 中国航天科工集团公司专利中心 11024 | 代理人： | 张国虹 |
| 地址： | 100854 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本说明书公开了一种用于镱离子微波频标的光路整形装置，涉及光路整形领域，旨在解决现有用于镱离子微波频标的光路整形装置中的激光与离子相互作用面积小，而且占用多个空间位置方向的光窗，导致激光利用率较低的问题。本发明装置包括：激光器组、光学镜片组、滤光器和离子阱；激光器组，用于发射多组设定波长的平行光；光学镜片组，用于将多组设定波长的平行光进行加工整形处理，获取整形光束；加工整形处理包括扩束、调制、汇集、整形；滤光器，用于消除整形光束中的杂散光，使得整形光束中的有用光进入所述离子阱，进而得到跃迁谱线。本发明增大了激光与离子相互作用面积，减少占用空间位置，提升了激光利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 离子 微波 标的 整形 装置 | ||
【主权项】：
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