[发明专利]显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法在审
申请号: | 202310372114.8 | 申请日: | 2018-03-07 |
公开(公告)号: | CN116500854A | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
发明(设计)人: | 今敷修久 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G03F1/26 | 分类号: | G03F1/26;G03F1/76 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 姜越 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种显示装置制造用光掩模,其能够在被转印体上稳定地形成微细的孔图案。该显示装置制造用光掩模构成为在透明基板上具有转印用图案,转印用图案包括:由四边形的透光部构成的主图案;由配置于主图案的周边的相移部构成的辅助图案;以及形成于主图案和辅助图案以外的范围的低透光部,当在主图案的周边定义包围主图案的、规定宽度的正八边形带时,辅助图案构成正八边形带的至少局部,将转印用图案所包括的多个主图案之一设为第一主图案,与第一主图案不同的第二主图案配置于接近第一主图案的位置,在构成包围第一主图案的正八边形带的八个区块中的、面对第二主图案侧的至少一个区块具有缺失的辅助图案配置于第一主图案的周边。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 制造 用光 以及 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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