[发明专利]提高器件抗浪涌能力的SGT MOSFET结构、方法及结构制备方法在审
申请号: | 202310383746.4 | 申请日: | 2023-04-11 |
公开(公告)号: | CN116314337A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 徐永年;苗东铭;杨世红;余远强 | 申请(专利权)人: | 陕西亚成微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L27/088;H01L29/66;H01L29/423 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 王少文 |
地址: | 710199 陕西省西安市高新*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供了一种提高器件抗浪涌能力的SGT MOSFET结构、方法及结构制备方法,用于解决SGT MOSFET导通时电源系统突然出现高的浪涌电流,导致SGT MOSFET过流烧坏进而降低整个电源系统可靠性的技术问题。本发明的SGT MOSFET结构将SGT MOSFET的栅极进行分区,分为第一栅极和第二栅极,第一栅极和第二栅极呈比例交错设置,在不增大器件尺寸的基础上,通过控制第一栅极和第二栅极中的一个完全导通,另外一个不完全导通或关断,以降低通过SGT MOSFET的电流,从而防止SGT MOSFET导通时系统突然出现高的浪涌电流对电源系统的损坏,在不增大器件内阻的情况下大大提高了电源系统的可靠性,可以广泛应用在热插拔这类特殊应用的系统中。 | ||
搜索关键词: | 提高 器件 浪涌 能力 sgt mosfet 结构 方法 制备 | ||
【主权项】:
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