[发明专利]一种微透镜面型刻蚀工艺方法在审
| 申请号： | 202310483656.2 | 申请日： | 2023-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN116577853A | 公开（公告）日： | 2023-08-11 |
| 发明（设计）人： | 罗妮;王晓锋;陈金珠 | 申请（专利权）人： | 华天慧创科技(西安)有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 马贵香 |
| 地址： | 710018 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及干法刻蚀领域，公开了一种微透镜面型刻蚀工艺方法，在基板SI片上涂抹特定的压印胶，将设计加工完成的微型异型面翻印到压印胶上，固化后，经过干法刻蚀，可以1:1(其它比例)还原设计微透镜阵列面型，该方式与传统的刻蚀工艺相比，一方面提高了微透镜面型的多样性，包含球面、非球面、自由曲面、棱镜、柱面镜、菲涅尔透镜等，另一方面，由于模具及纳米压印的高精度性，提高了产品一致性，解决了传统刻蚀工艺对刻蚀透镜面型矢高、口径、面型种类受限，整版产品一致性差的问题，提高产品良率，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透镜 刻蚀 工艺 方法 | ||
【主权项】：
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