[发明专利]一种等离子体射流产业应用装置和方法在审
| 申请号： | 202310499427.X | 申请日： | 2023-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN116367403A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 崔伟胜;张若兵 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳国际研究生院 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 王震宇 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体射流产业应用装置和方法，该装置包括连通在一起而形成一个气体循环系统的组分注入及调节腔、放电腔、压强平衡腔和气体循环动力装置，组分注入及调节腔用于向气体循环系统内注入工作气体及气体组分的实时调节，保持工作气体组分稳定，在放电腔内生成弥散状等离子体射流，压强平衡腔用于平衡气体循环系统内的压强，气体循环动力装置用于提供气体循环的动力，重复利用工作气体，避免常规开放环境等离子体射流生成时稀有气体损耗。本发明通过在封闭系统内注入工作气体并设置气体循环动力装置，大幅降低等离子体射流生成成本，为等离子体射流产业应用提供条件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 射流 产业 应用 装置 方法 | ||
【主权项】：
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