[发明专利]电光晶体光轴对准系统及方法在审
| 申请号： | 202310512315.3 | 申请日： | 2023-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN116224610A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 张朋;陈宜稳;李琼;王妍洁;吴正容;张银辉;王洪刚;刘建;蔡文炳;徐小琴;赵学军 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军63921部队 |
| 主分类号： | G02B27/30 | 分类号： | G02B27/30 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 王思楠 |
| 地址： | 100094*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供一种电光晶体光轴对准系统及方法，属于光学对准技术领域。该系统包括：分光装置、第一反射装置、第一透镜、第二反射装置以及光学处理设备。分光装置用于将来自光束产生装置的原始光束拆分为第一光束和第二光束；第一反射装置用于将第一光束的反射光束射入分光装置；第二反射装置用于将第二光束的折射光的反射光束射入第一透镜；分光装置还用于将第一光束的反射光束和准直后反射光束反射到光学处理设备；光学处理设备用于基于干涉图像确定待对准电光晶体的光轴是否对准，并在待对准电光晶体的光轴对准时记录待对准电光晶体的目标位姿，并控制待对准电光晶体处于目标位姿。可以达到在确保对准精度的同时还能提高适用性、降低成本的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 晶体 光轴 对准 系统 方法 | ||
【主权项】：
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