[发明专利]具有加热盘调平功能的薄膜沉积设备

摘要

本发明涉及薄膜沉积设备技术领域，公开了具有加热盘调平功能的薄膜沉积设备，包括：反应室、加热盘、套筒和调平机构，反应室内设有反应腔，加热盘底面设有连接轴，连接轴适于插入密封套内。套筒设置在反应室的底部，套筒上开设多个调节孔。调平机构包括：调节轴、调节盘和调节件，调节轴穿入贯穿孔，调节轴的连接端与加热盘连接，调节轴的调节端设有调节盘。调节件上设有调节部，调节部用于支撑调节盘，调节件适于沿调节孔的轴向方向移动使得加热盘调平。本发明通过移动调节件使调节件沿调节孔的轴向方向移动，带动调节轴移动，使得倾斜的加热盘表面调整为水平状态，使晶圆放置在水平的加热盘表面进行薄膜沉积，保证晶圆沉积质量。