[发明专利]一种高效稳定制备SiC界面涂层的方法在审
| 申请号： | 202310538103.2 | 申请日： | 2023-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN116514557A | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 李露;许淳;马朝利;郑瑞晓;肖元 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C04B35/628 | 分类号： | C04B35/628 |
| 代理公司： | 北京天汇航智知识产权代理事务所(普通合伙) 11987 | 代理人： | 黄川 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高效稳定制备SiC界面涂层的方法，属于陶瓷基复合材料技术领域，解决了现有技术中沉积速率较低、工艺稳定性不足、沉积产物不符合化学计量比的问题。本发明的高效稳定制备SiC界面涂层的方法，以MTS为前驱体，通过氢气鼓泡法将MTS引入反应炉沉积SiC界面涂层，在误差范围内，涂层的碳硅比近似为1:1，涂层纯度高；采用特殊设计的石墨模具调控反应气体的滞留时间，沉积速度快，沉积形貌的稳定，模具使用和维护成本低；通过质量流量计控制各路气体流量，通过针阀控制混气总压，从而精准调控工艺参数，控制载气氢气流量使得反应区的氢气和MTS气体比值为1:1，制备出符合预期要求的SiC界面涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高效 稳定 制备 sic 界面 涂层 方法 | ||
【主权项】：
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