[发明专利]一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置及测量方法在审
申请号: | 202310588296.2 | 申请日: | 2023-05-23 |
公开(公告)号: | CN116625193A | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 吴俊杰;蔡潇雨;魏佳斯;李源;周勇;孙恺欣 | 申请(专利权)人: | 上海市计量测试技术研究院;上海计测信息科技有限公司 |
主分类号: | G01B5/02 | 分类号: | G01B5/02 |
代理公司: | 上海剑秋知识产权代理有限公司 31382 | 代理人: | 袁巍 |
地址: | 200040 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置及方法,通过采用两台共聚焦显微镜直接定位量块的两个测量面,实现量块长度的测量,无需借助辅助面,避免了采用其他原理单方向测量时存在的量块与辅助面研合间隙造成的测量误差,结果更为准确可靠。本发明涉及的一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置采用两台共聚焦显微镜对顶测量的方式,通过定位量块两个测量面实现测量,无需进行全范围扫描,仅需在量块的测量面附近进行慢速扫描,其余位置均可快速移动,在测量长度较长的量块时,可有效提升测量效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 聚焦 显微镜 量块 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海市计量测试技术研究院;上海计测信息科技有限公司,未经上海市计量测试技术研究院;上海计测信息科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310588296.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种工业检测线扫描镜头
- 下一篇:一种基于机器视觉的学生上课专注度的评测方法