[发明专利]用于光刻胶层中场引导酸轮廓控制的设备在审
| 申请号： | 202310643944.X | 申请日： | 2017-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN116610008A | 公开（公告）日： | 2023-08-18 |
| 发明（设计）人： | 卢多维克•戈代;克里斯汀·Y·欧阳;维加斯拉夫·巴巴扬 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文描述的实施方式涉及用于处理基板的设备和方法。更特定地，提供了一种具有可移动电极的处理腔室，可移动电极用于在填充有流体的处理容积内产生平行场。在一个实施方式中，处理腔室的长轴线垂直地定向，且基板支撑件与沿着处理腔室的长轴线延伸的多个可移动电极相对设置。在某些实施方式中，基板支撑件是电浮动的且能够在处理基板期间围绕处理腔室的短轴线旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 中场 引导 轮廓 控制 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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