[发明专利]一种宽带超低减反射膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310653220.3 申请日: 2023-06-02
公开(公告)号: CN116661026A 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 付秀华;魏雨君;陈琦;董所涛;林兆文;王奔;潘永刚 申请(专利权)人: 中山吉联光电科技有限公司;长春理工大学中山研究院
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;C03C17/34;C23C14/02;C23C14/24;C23C14/10;C23C14/08;G02B1/115
代理公司: 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 代理人: 赵然;黄贞君
地址: 528414 广东省中山市火炬开发区东镇东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供一种宽带超低减反射膜及其制备方法,涉及光学薄膜技术领域,包括:S1、将基板放入真空室内,对真空室抽真空,当真空度为1×10‑1~5×10‑2Pa时,对基板进行烘烤,烘烤温度为220~300℃,烘烤时间不少于1小时;S2、当真空度达到6×10‑4~9×10‑4Pa时,采用离子源对基板进行预清洁;S3、开启挡板前将SiO2膜料和Ti3O5膜料预熔至蒸发状态,打开挡板后在预清洁后的基板上利用SiO2膜料和Ti3O5膜料交替镀膜;S4、开启挡板前将MgF2膜料和最后一层SiO2膜料预熔至蒸发状态,打开挡板后在前层材料上进行MgF2膜料的镀膜,然后加镀SiO2膜料,得到宽带超低减反射膜。
搜索关键词: 一种 宽带 减反射膜 及其 制备 方法
【主权项】:
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