[发明专利]一种多方位角下的三维溅射沉积收集装置在审
| 申请号： | 202310750458.8 | 申请日： | 2023-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN116536638A | 公开（公告）日： | 2023-08-04 |
| 发明（设计）人： | 王晓宇;苗龙;何梓豪 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京东方盛凡知识产权代理有限公司 11562 | 代理人： | 王宁宁 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种多方位角下的三维溅射沉积收集装置，包括真空仓，真空仓内设置有支撑底板和射频离子推力器，支撑底板的顶部可拆卸安装有溅射沉积三维收集机构，支撑底板的顶端设置有靶材，靶材设置于溅射沉积三维收集机构的内侧，射频离子推力器设置于溅射沉积三维收集机构的上方，射频离子推力器用于产生离子束，离子束用于轰击靶材。本发明通过实验收集多方位角度下的靶材溅射沉积质量，基于经离子轰击靶材后溅射粒子产生的三维球型溅射区域监测的需求，通过靶材及三维溅射沉积收集装置不同角度的摆放，实现离子不同轰击入射角的三维溅射区域监测。本发明采用机械结构组成，易于组装，加工简单，使用方便，数据采集稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多方位 三维 溅射 沉积 收集 装置 | ||
【主权项】：
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