[实用新型]半导体设备零部件气体分配盘的熔射保护工装有效
申请号: | 202320148843.0 | 申请日: | 2023-01-16 |
公开(公告)号: | CN219449836U | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 王阳阳;陶近翁;陶岳雨;杨科 | 申请(专利权)人: | 卡贝尼新材料科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C4/01 | 分类号: | C23C4/01;C23C4/134;C23C16/455 |
代理公司: | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人: | 王丹东 |
地址: | 200120 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种涉及气体分配盘技术领域的半导体设备零部件气体分配盘的熔射保护工装,包括凸起、内圈和定位圈,凸起连接于定位圈上,定位圈连接内圈,内圈和定位圈罩于气体分配盘上。本实用新型对于被保护的部件表面不会留下残胶、污垢,熔射层边缘平滑过渡无台阶,熔射区域精准可控,用于替代手工用耐高温胶带对非熔射区域的遮蔽保护,具有使用方便,稳定可控,精度高,可重复使用,降低工时及物料成本的优点。 | ||
搜索关键词: | 半导体设备 零部件 气体 分配 保护 工装 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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C23C4-18 .后处理
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